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李世泽; 魏正英; 杜军; 唐一平;
西安交通大学机械制造系统国家重点实验室,710049,西安;
微压印; 抗蚀剂填充; 可视化研究; 数值模拟;
机译:通过计算流体动力学模拟和散焦数字粒子图像测速技术研究微压印光刻中的抗蚀剂填充行为
机译:散焦数字粒子图像测速技术在微压印光刻中抗蚀剂填充行为的实验研究
机译:模具几何形状和初始抗蚀剂厚度对UV-纳米压印光刻中填充行为的影响
机译:纳米压印光刻中剥离释放期间的抗蚀剂行为
机译:纳米压印光刻胶的抗蚀剂和压印的孔膜的物理化学表面相互作用。
机译:使用具有各种微/纳米比的印模进行的紫外线纳米压印光刻的抗蚀剂填充研究
机译:UV-纳米压印光刻胶中填充胶行为的数值模拟与实验研究
机译:用于在细胞和组织培养中用于在塑料表面中压印微泻湖区域的过程
机译:出于光学目的,压印,纳米压印光刻原版或光敏系统中的结构转移,在光学透明的塑料表面上复制微或纳米结构,使用具有抗蚀剂的可固化浇铸树脂作为原始材料
机译:压印抗蚀剂和基材预处理可减少纳米压印光刻中的填充时间
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