用于缩短纳米压印光刻的填充时间的压印抗蚀剂和基材预处理

摘要

通过使用包括氟化组分的压印抗蚀剂和用预处理组合物处理过的基材以促进压印抗蚀剂在基材上的展开来提高纳米压印光刻法的处理量。预处理组合物与空气之间的界面能超过压印抗蚀剂与空气之间的界面能1mN/m，并且压印抗蚀剂在纳米压印光刻模板上的接触角小于15°。