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眭松山; 魏军;
不详;
XRF基本参数法; 荧光分析; 薄膜; 厚度; 计算;
机译:Monte Carlo模拟标准的ED-XRF多变量分析厚度测定金属多层分析
机译:共聚焦显微XRF原位和元素分辨测定多层膜的厚度均匀性
机译:基于EDXRF和vis-RS的无创方法可检测图像多层的地层,厚度和颜料浓度:原位应用
机译:基本参数法定量分析特殊基质中碳的xrfa
机译:薄膜生长中薄膜孔隙率,表面粗糙度和厚度的随机建模和控制。
机译:MA-XRF分析中的差分X射线衰减用于无创确定镀金厚度
机译:基本参数法进行磁性薄膜的XRF分析。
机译:使用来自WDXRF和EDXRF的多目标,多晶,感兴趣区域对未加权样品进行反向散射/基本参数分析。
机译:用于测量多层薄膜的厚度和折射率使用角度解析光谱干扰图像根据偏振来测量多层薄膜的厚度和折射率
机译:使用放射性同位素X射线荧光(RXRF)确定薄膜厚度和元素组成的方法和装置
机译:控制薄膜的薄膜厚度和多层薄膜的层厚度的方法
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