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深亚微米MOS器件模型BSIM2及其参数提取

             

摘要

详细分析了适用于VLSI/ULSI设计的深亚微米BSIM2 MOS器件模型,并在深入讨论短沟道MOS器件物理效应的基础上,对沟道长1μm栅氧化层厚度25nm的nMOSFET进行了测试和BSIM2模型参数的提取,且对结果进行了分析和讨论。结果表明,BSIM2具有精确、参数易提取、计算速度快的特点,是VLSI/ULSI模拟设计的重要工具之一。

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