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黄美东; 李云珂; 王萌萌; 王宇; 陈广宵;
天津师范大学物理与材料科学学院,天津300387;
多弧离子镀; TiAlN/TiN多层膜; 薄膜结构; 力学性能;
机译:分离靶电弧离子镀制备TiN/TiAlN多层薄膜的微观结构和力学性能
机译:调制时间对多弧离子镀TiBN / TiN纳米多层膜微结构和力学性能的影响
机译:多弧离子镀在AZ91合金上TiN和TiAlN涂层的结构和耐磨性
机译:反应磁控溅射沉积TiAlN / Si3N4纳米多层膜的微观结构,力学性能和热稳定性
机译:通过反应电子束物理气相沉积(EB-PVD)沉积的微米厚氧化ado膜的工艺-结构-性能关系
机译:Taguchi法优化电弧离子镀TiAlN膜的附着强度
机译:干式滑动中AlCrN,TiN,TiAlN单层涂层以及TiAlN / AlCrN,AlN / TiN纳米多层涂层的摩擦磨损性能
机译:离子镀金膜:性能,摩擦学性能和性能
机译:具有多层结构的TiN膜的沉积方法
机译:通过原子层沉积来沉积TIALN的方法以及使用通过该方法形成的TIALN薄膜的半导体器件的电介质全电容器
机译:离子镀膜装置及通过蒸镀/蒸镀膜的膜厚的沉积以及通过离子镀膜控制成分分布的方式
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