多弧离子镀沉积TiAlN薄膜的工艺研究

摘要

采用多弧离子镀设备在高速钢表面制备了TiAlN薄膜，研究了沉积工艺参数对薄膜性能的影响规律，并且确定了制备TiAlN薄膜的最佳沉积工艺。rn 实验结果表明：靶电流70A、基底负偏压-100V、沉积温度550℃、氮气分压值1Pa时涂层硬度达到2640HV0.05，结合力约为29.7N，涂层具有最佳的综合性能。