铂微电极上铜的电化学成核机理

摘要

用半径10μm 的铂微电极研究了铜的电化学成核机理.循环伏安实验表明:铜在铂上的电沉积明显分为两个单电子还原步骤,而铜在相同尺寸下的铜微电板上沉积是单步双电子还原反应.理论分析表明:在这两种基体上其成核行为的不同是由于其成核速度及扩散控制差异造成,恒电位阶跃法实验表明:铜在铂上的成核速度大于铜在铜上的成核速度.I-t 曲线的理论分析表明:在这两种基体上铜微品的生长受 Cu^(2+)的扩散所控制.其扩散系数由 I-t^(1/2) 之斜率求得.微电极实验操作简便。重现性优于常规法。理论分析简单,且能获得常规方法难于得到的结果.