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一种铜载体上纳米铜涂层的原位电化学制备方法

摘要

本发明属于纳米材料电化学制备领域,具体涉及一种铜载体上纳米铜涂层的原位电化学制备方法。本发明的技术方案如下:一种铜载体上纳米铜涂层的原位电化学制备方法,采用三电极体系,铜载体为工作电极,铂网为对电极,饱和甘汞电极为参比电极,对铜载体在酸性硫酸铜溶液中进行电化学恒电流氧化,然后在碱性氯化钾溶液中进行电化学恒电流还原,在铜载体上直接生长出纳米铜涂层。本发明步骤简单,成本低廉,不受铜载体形状的限制,在常温下就可得到纳米铜涂层,该纳米涂层结构与载体之间的附着力强,不易脱落,可直接用于热氢发生器、凝胶推进剂、燃烧活性剂、催化剂、水清洁吸附剂、烧结活性剂等载体。

著录项

  • 公开/公告号CN108456910A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-08-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 沈阳建筑大学;

    申请/专利号CN201810105733.X

  • 发明设计人 万晔;李艳波;范兆荣;朱旭;

    申请日2018-02-02

  • 分类号

  • 代理机构沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人任凯

  • 地址 110168 辽宁省沈阳市浑南区浑南东路9号

  • 入库时间 2023-06-19 06:17:24

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-09-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):C25D11/34 申请日:20180202

    实质审查的生效

  • 2018-08-28

    公开

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