首页> 中文期刊> 《南通医学院学报 》 >头孢唑啉钠在悬铜汞齐微电极上的电化学行为为及其痕量测定

头孢唑啉钠在悬铜汞齐微电极上的电化学行为为及其痕量测定

             

摘要

应用循环伏安法(CV)和示差脉冲吸附阴极溶出伏安法(DPAdCSV)研究头孢唑啉钠在悬铜汞齐微电极(HCADME)上的电化学行为及电极反庆机理,发现头孢唑啉钠与Cu(Ⅱ)形成配比为1:1的配合物,并吸附在HCADME上,反应电子娄秋2。并建立了示差脉冲吸附阴极溶出伏安法(DPAdCSV)测定痕量头孢唑啉钠的灵敏方法。其测定的线性范围为6×10^5-1×10^-6mol/L;检测限约为4×106-1

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号