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双源电子束蒸发制备Si/SiO_2光学薄膜的工艺

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摘要

用双源电子束蒸发的方法,在K9玻璃基片上蒸镀Si和SiO_2的混合膜.通过改变两种膜料蒸发速率的比例,得到的各个膜层,其折射率大小在两种膜料折射率之间的范围内变化.从实验上得出了混合膜层的折射率随Si和SiO_2蒸发速率比变化的规律,并讨论了这种淀积方法的优越性.

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来源
《半导体学报》 |2006年第9期|1586-1589|共4页
作者
赵妙; 周代兵; 谭满清; 王晓东; 吴旭明;
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作者单位

中国科学院半导体研究所光电子研究发展中心;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜物理学;
关键词
薄膜; 介质光学膜; 双源电子束蒸发; 折射率; 蒸发速率;

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