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任黎明; 陈宝钦;
中国科学院微电子中心微光刻实验室;
电子束曝光; 电子散射; 蒙特卡洛法; 半导体工艺;
机译:基于Monte Carlo模拟的低能电子束光刻模板掩模结构因子优化。
机译:EGSnrc,Geant4和PENELOPE Monte Carlo系统在模拟外部束放射治疗中电子散射方面的准确性。
机译:Monte-Carlo模拟和分析表达式,用于11个单原子材料中的低能电子的外推范围和传输速率[10eV-10 kev]
机译:在离散的离散近似Monte-Carlo方法模拟薄膜中的电子散射
机译:使用Monte Carlo方法将小粒子太阳能接收机窗口中的辐射传热模拟
机译:基于定量SPECT的放射性核素治疗的3维吸收剂量计算方法:使用Monte Carlo模拟评估131I
机译:使用monte Carlo方法测量由碘的低能电子引起的甲状腺滤泡的剂量测定使用蒙特卡罗方法测定由碘的低能电子引起的甲状腺滤泡中的剂量测定
机译:电子 - 正电子散射中辐射过程的monte Carlo模拟
机译:使用Monte Carlo模拟的EPMA分析方法
机译:使用噪声加速模拟退火和MARKOV MONTE CARLO估计的收敛
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