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染色腐蚀多孔硅的光致可见光发光特性

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摘要

用氯氟酸硝酸水溶液对硅单晶抛光片进行染色腐蚀，制备了多孔硅．本文研究染色腐蚀多孔硅的光致可见光发光特性，特别是激发光强度和波长与发射光强度与波长的关系，多孔硅的稳定性和响应特性．

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来源
《半导体学报》 |1994年第10期|681-685|共5页
作者
夏永伟; 李国花; 滕学公; 樊志军;
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作者单位

中国科学院半导体研究所;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TN304.12;
关键词
多孔硅; 光致发光; 可见光; 染色腐蚀;

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