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李永亮; 徐秋霞;
Institute;
of;
Microelectronics,;
Chinese;
Academy;
Sciences,;
Beijing;
100029,;
China;
金属栅极; 集成技术; 湿法刻蚀; 高k电介质; 应用; 钽薄膜; 湿法腐蚀; 高选择性;
机译:(-)-TAN1251A,(+)-TAN1251B,(+)-TAN1251C和(+)-TAN1251D的仿生全合成
机译:苹果Imac G5 20in
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机译:等离子体辅助不平衡磁控溅射制备的Ta / TaN / TaN(Ag)/ TaN纳米多层涂层的电化学响应
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