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镶嵌纳米碳粒氧化硅膜的电致发光研究

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摘要

采用复合靶磁控共溅射法制备了含纳米碳粒的氧化硅薄膜.测量显示,随着正向偏压的增加,来自Au/含纳米碳粒氧化硅膜/p-Si结构的电致发光峰位于650 nm处几乎不移动.

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来源
《西北师范大学学报（自然科学版）》|2005年第3期|32-3338|共3页
作者
马书懿; 马自军; 陈海霞; 张开彪;
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作者单位

西北师范大学,物理与电子工程学院,甘肃,兰州,730070;

西北师范大学,物理与电子工程学院,甘肃,兰州,730070;

西北师范大学,物理与电子工程学院,甘肃,兰州,730070;

西北师范大学,物理与电子工程学院,甘肃,兰州,730070;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 O472.3;
关键词
磁控共溅射法; 纳米碳粒; 电致发光;

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