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CVD法制取Fe-6-5 Si薄板的扩散工艺计算机模拟

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摘要

在分析ＣＶＤ法渗Ｓｉ制备Ｆｅ６５％Ｓｉ合金薄板的实际工艺要求基础上，择定了母材的Ｓｉ含量、扩散温度及气氛浓度·利用计算机模拟研究了在所确定条件下对一定厚度样品实施单步扩散和两步扩散的最佳处理工艺·模拟计算结果与实验符合较好·

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来源
《东北大学学报：自然科学版》 |1999年第4期|405-407|共3页
作者
胡广勇; 武保林; 王刚; 王轶农; 左良; C.Esling;
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作者单位

东北大学材料与冶金学院;

UniversityofMetz;

France;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类各种钢的冶炼;
关键词
CVD法; 扩散; 计算机模拟; 硅钢; 铁硅合金; 薄板;

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