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吴全兴;
Si3N4; SiC; 涂覆装置; 超微粒子; CVD法; 氧化性气氛; 复合粉体; 制取;
机译:通过在环境压力下通过MOCVD和使用热壁CVD装置在不锈钢上生长氧化铝薄膜
机译:在玻璃珠-PCVD涂覆的TiO2薄膜填充的非热等离子体反应器中去除NO和SO2
机译:通过快速热CVD在硼和磷硅酸盐玻璃涂覆的陶瓷基板上制备的多晶硅膜
机译:用Mirowava用新型等离子体CVD设备使用新型等离子体CVD装置,用新型等离子体CVD装置进行DLC涂覆内表面的摩擦学性质
机译:使用原位红外光谱法从TEOS和臭氧进行二氧化硅的APCVD过程中热活化边界层内的化学:磷和硼对气相化学的影响。
机译:用AG纳米线涂覆纤维素材料用于制造可佩带的IR反光装置用于个人热管理:涂布方法和装载水平的作用
机译:用Ti(OPR I SUP>)通过CVD法制备水的TiO 2 sub>膜涂覆Si装置,用于通过CVD方法进行光分解(OPR i sup>) 4 sub>
机译:用于涂覆UO2粉末的WCl6 CVD系统的研究进展。
机译:超微粒子的涂覆方法,超微粒子的涂覆系统
机译:热催化剂主体内置阴极型PECVD设备,热催化剂主体内置阴极型PECVD方法和使用该方法的CVD装置
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