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基片温度对TiO2薄膜表面形貌和性能的影响

     

摘要

利用射频磁控溅射设备在玻璃基片上制备TiO2薄膜,采用AFM、UV-Vis分光光度、接触角测定仪等测试手段,研究基片温度对薄膜表面形貌、粗糙度和表面性能的影响.结果表明,随着基片温度增加,薄膜表面粗糙度增大,薄膜中颗粒由无定形态逐渐向定向排列的晶态转变,而薄膜结构、表面形貌和粗糙度的变化明显影响薄膜表面性能.最后,探讨了薄膜的生长机理.

著录项

  • 来源
    《材料科学与工程学报》|2006年第3期|382-385|共4页
  • 作者单位

    中国建筑材料科学研究院特种玻璃纤维与光电功能材料研究所,北京,100024;

    大连轻工业学院材料科学与工程系,辽宁,大连,116034;

    大连轻工业学院材料科学与工程系,辽宁,大连,116034;

    大连轻工业学院材料科学与工程系,辽宁,大连,116034;

    大连理工大学三束材料改性国家重点实验室及物理系,辽宁,大连,116024;

    中国建筑材料科学研究院特种玻璃纤维与光电功能材料研究所,北京,100024;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 TQ171.72+4;
  • 关键词

    TiO2薄膜; 基片温度; 原子力显微镜; 表面形貌; 表面性能;

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