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戴剑锋; 陈达城; 崔春梅; 樊学萍;
兰州理工大学甘肃省有色金属新材料重点实验室,甘肃兰州730050;
兰州理工大学理学院,甘肃兰州730050;
碳化硅纳米管; 掺杂; 第一性原理; N型半导体; P型半导体;
机译:掺杂硼的碳化硅纳米管对NO_2吸附性能的第一性原理研究
机译:X(X = N,P,As,Sb)掺杂(9.0)单壁SiC纳米管的第一性原理研究
机译:InAs,In_xGa_(1-x)Sb纳米管和InAs / In_xGa_(1-x)Sb纳米管超晶格的第一性原理研究
机译:石墨烯和碳纳米管的功能化和取代掺杂的第一性原理研究。
机译:Hf / Sb共掺杂引起ZrNiSn的高热电性能:第一性原理计算
机译:铜掺杂后半金属CoMnSb和NiMnSb半Heusler合金的磁相变:第一性原理计算
机译:通过金属有机气相外延生长的Gasb和Ga(sub 0.8)In(sub 0.2)sb层中的p型和N型掺杂
机译:碳纳米管的n型掺杂材料及碳纳米管的n型掺杂方法
机译:碳纳米管的合成和掺杂的方法制备方法包括:含有过渡金属催化剂的氧化物的溶胶-凝胶载体,碳纳米管的培养,掺杂元素纳米管的掺杂和纳米管的纯化;和碳掺杂
机译:从碳纳米管的n型掺杂材料和n型掺杂组成的组中选择一种
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