RF-HFCVD生长高质量纳米金刚石薄膜

摘要

采用射频等离子体增强的热丝化学气相沉积(RF-HFCVD)技术在石英玻璃衬底上制备了高质量的纳米金刚石薄膜.研究了衬底温度、反应气压及射频功率对金刚石膜的结晶习性和光学性质的影响,其最佳值分别为700℃、2×133Pa和200W.在该条件下金刚石成核密度达1011cm-2,经1h生长即获得连续薄膜,其平均晶粒尺寸为25nm,表面粗糙度仅为55(A),在近红外区域(800nm处)的光透过率达90%.