不同浓度氮气对于MPCVD法生长纳米金刚石薄膜的影响

摘要

采用微波等离子体化学气相沉积法,以N2/H2/CH4为气源,通过改变反应气氛中的N2浓度(10％～30％)制备了金刚石薄膜.采用扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、X射线衍射仪等设备对金刚石薄膜的表面形貌、晶粒尺寸以及薄膜质量进行了分析,研究了不同浓度氮气对于沉积金刚石薄膜的影响,结果表明:当氮气浓度低于30％时,沉积的金刚石薄膜晶粒尺寸变化不明显,表面平整度较好,氮气浓度达到30％时,金刚石晶粒增大,缺陷增加;随着氮气浓度增加,薄膜中金刚石相含量下降,同时,金刚石趋向于(111)面优先生长.