首页> 中文期刊> 《湖南理工学院学报（自然科学版）》 >低介电常数含氟碳化膜微观性能分析

低介电常数含氟碳化膜微观性能分析

开具论文收录证明 >>

期刊封面封底目录下载 >>

文献代查 >>

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

以CH4和CF4的混合气体作源气体,利用等离子体增强型化学气相沉积法(PECVD)改变沉积条件,制备了一批含氟碳化膜样品.并用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射、红外光谱、紫外一可见光等设备分析了薄膜的表面形貌和微观性能.

著录项

来源
《湖南理工学院学报（自然科学版）》 |2004年第4期|62-65|共4页
作者
刘一兵;
展开▼
作者单位

湖南省邵阳市8531厂,湖南,邵阳,422004;

展开▼
原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类镧系元素（稀土元素）的无机化合物;
关键词
PECVD; 含氟碳化膜; 微观性能;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. VLSI用低介电常数含氟碳膜研究 [J] . 刘雄飞 ,李幼真 ,肖剑荣 . 电子元件与材料 . 2003,第001期
2. PECVD法制备低介电常数含氟碳膜研究 [J] . 刘雄飞 ,李幼真 ,肖剑荣 . 微细加工技术 . 2002,第004期
3. 等离子体与氧杂碳化硅低介电常数隔离膜的相互作用 [J] . 陈维 ,韩清源 ,Robert Most . 电子工业专用设备 . 2003,第004期
4. 赛隆结合碳化硅耐火材料的微观结构与性能分析 [J] . 徐国涛 ,杨熹文 . 陶瓷工程 . 1999,第001期
5. 含氟低介电常数有机材料研究进展 [J] . 王海 ,程文海 ,周涛涛 . 有机氟工业 . 2020,第002期
6. 低介电常数含氟聚芳醚酮的合成与性能研究 [C] . 刘佰军 ,呼微 ,陈春海 . 第四届中国功能材料及其应用学术会议 . 2001
7. 碳化硅/聚酰亚胺基低介电常数复合材料制备与特性研究 [A] . 王铎 . 2006

获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

客服微信
服务号