怀山药多糖的羧甲基化修饰及保润性能

摘要

为了研究山药多糖及其羧甲基化衍生物的结构和保润性能,采用碱提醇沉法从怀山药中提取山药多糖,然后对山药多糖进行羧甲基化修饰.采用傅里叶变换红外光谱仪和尺寸排阻色谱-多角度激光光散射-示差折光(SEC-MALLS-RI)法,对山药多糖羧甲基化衍生物结构进行表征.测定了山药多糖及其衍生物对烟丝的保润性能.研究结果表明:山药多糖的提取率为4.2％(质量分数),羧甲基化山药多糖的取代度为0.37.山药多糖的质均相对分子质量为6.6×104.低相对湿度条件下平衡水分48 h后,添加了5％羧甲基化山药多糖比添加了5％山药多糖的烟丝含水率降幅低了14.83％.羧甲基化山药多糖添加到卷烟中可以柔和烟气,提高抽吸舒适度,并降低刺激性.