基于MOCVD法制备的NiO薄膜结构与光学特性

摘要

用金属有机化学气相沉积法在Si衬底上制备了NiO薄膜.分别采用X光电子能谱、电子显微镜、X射线衍射以及紫外-可见分光光度计对样品的结构和光学特性进行测试.X光电子能谱测试结果表明:薄膜中Ni元素以二价态存在,Ni与O比值接近1:1,表明制备的样品为NiO薄膜;电子显微镜和X射线衍射分析显示NiO薄膜呈现多晶态;紫外-可见分光光度计测试结果显示:NiO薄膜具有高透过率,400nm附近最高透过率为96%,通过线性外推法作图得到NiO薄膜的禁带宽度在3.7 eV左右.