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闫小兵; 史守山; 娄建忠; 郑树凯; 曹智;
河北大学电子信息工程学院;
河北省数字医疗工程重点实验室;
河北保定071002;
沉积压强; 光学性质; 电学性质;
机译:O-2流速对RF反应磁控溅射沉积的ZnO薄膜特性的影响
机译:RF-磁控溅射沉积Ti薄膜的分形和统计表征:沉积时间的影响
机译:沉积环境中氧分压对RF磁控溅射沉积Gd203薄膜的影响
机译:沉积温度和热处理后条件对RF磁控溅射沉积制备(100)自取向LaNiO_3薄膜特性的影响
机译:硼氮化硼薄膜沉积在RF磁控溅射
机译:氧浓度对超薄射频磁控溅射沉积铟锡氧化物薄膜作为光伏器件上电极的性能的影响
机译:通过RF磁控溅射沉积无定形和结晶Al掺杂的ZnO薄膜及其对比特性
机译:沉积条件对射频磁控溅射mos2薄膜的影响
机译:磁控溅射枪和磁控溅射薄膜沉积装置
机译:磁控溅射系统及通过磁控溅射薄膜沉积的方法
机译:沉积原子层以改善薄膜特性的方法,所述薄膜特性可在低温步骤和高温步骤多次重复一次一次强化沉积循环的情况下重复强化沉积循环
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