The University of Texas Rio Grande Valley.;
机译:射频磁控溅射沉积在硅上的六方氮化硼薄膜的水分稳定性
机译:通过不平衡射频磁控溅射和脉冲直流衬底偏置沉积的立方氮化硼膜
机译:添加到氩氮溅射气体中的氢含量和衬底偏置电压的参数空间,以通过不平衡磁控溅射法形成立方氮化硼薄膜
机译:射频不平衡磁控溅射合成六方氮化硼纳米壁
机译:射频反应磁控溅射在低温下沉积在硅上的压电氮化铝薄膜的声波器件特性
机译:磁控溅射沉积的ZrZr氮化物和Zr-碳氮化物涂层的合成微观结构表征及纳米抑制
机译:磁控溅射在Si3N4上沉积的氮化硼薄膜
机译:射频磁控溅射电子辅助沉积立方氮化硼