磁场对电解抛光作用计算机模拟分析

摘要

通过实验很难观测到磁场对电解抛光的微观作用,因此参照带电粒子在磁场中运动的作用机理,建立起电解抛光时电磁场作用下的带电粒子运动模型.同时采用三维图形标准OpenGL,在VC++的编程环境下,根据建立的运动模型对带电粒子运动轨迹进行模拟分析,证明了磁场可加速带电粒子的扩散和迁移,从而提高了电解抛光加工效率和加工质量