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翟文杰; 翟权;
哈尔滨工业大学 机电工程学院;
哈尔滨150001;
碳化硅; 超声; 电场; 机械抛光; 材料去除率; 表面粗糙度;
机译:碳化硅的电化学机械抛光
机译:铜的电化学机械抛光和玻璃的化学机械抛光
机译:碳化硅陶瓷的电化学腐蚀第1部分:烧结碳化硅(SSiC)的电化学研究
机译:铜电化学机械抛光(Cu-ECMP)中的实验和分子动力学研究。
机译:超声化学机械抛光与超声研磨相结合的单晶碳化硅晶片材料去除及表面生成研究
机译:前瞻性和随机研究的患者接受或不接受覆有非晶态碳化硅涂层的支架预防冠状动脉再狭窄。随机超声评估带和不带非晶碳化硅的假体之间的血管内超声比较
机译:碳化硅的化学机械抛光
机译:碳化硅晶片的电化学机械抛光方法
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