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鲁道荣; 李学良; 何建波; 朱云贵;
合肥工业大学,化工学院,安徽,合肥,230009;
杂质离子 ; 铜沉积; 晶面取向; 晶胞尺寸; 结晶形态 ;
机译:铜电镀膜的杂质和微观结构对使用铜铝合金种子的铜互连可靠性的影响
机译:不同电镀方式下氯离子对硝酸铜溶液电沉积铜及Cu-ZrB_2涂层的织构的影响
机译:铜和阴离子对电镀和电解沉积中锌-镍异氰酸酯共沉积的影响
机译:氯离子对铜电沉积过程中SPS,PEG和TPM-1协同相互作用及吸附行为的影响
机译:供水水库中硫酸铜的分散,藻类对铜(II)的吸收以及铜(II)离子对藻类的一些影响
机译:化学共沉积技术增强石墨烯纳米片增强铜复合材料的微观结构和纳米压痕行为
机译:Cl-离子对含有聚丙烯酰胺酸铜硫酸铜浴铜沉积物的影响。
机译:氯离子对铜氧化铝共沉积的影响。
机译:用于在基板上沉积铜的不带电的铜浴,一种从铜浴中析出铜的工艺,该铜浴是无杂质的依替丁二腈四-2-丙醇(EDTP)。
机译:在激光沉积焊接和/或避免所用材料中的边界区沉积过程中影响应用于至少一个或至少一个先前应用层的附加材料的微观结构的方法
机译:一种影响填充材料的微观结构的方法,该填充材料在衬底上或在至少一个已经施加的附加材料层上的分层激光沉积焊接中和/或避免Randzonenversprödung从而施加附加材料
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