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张兴文; 胡立江; 赵树山; 孙德智;
哈尔滨工业大学,应用化学系,黑龙江,哈尔滨,150001;
哈尔滨工业大学,环境科学与工程系,黑龙江,哈尔滨,150001;
哈尔滨工业大学,航天科学与力学系,黑龙江,哈尔滨,150001;
结合强度; 有机-无机杂化膜; 纳米划痕; 正硅酸乙酯;
机译:正硅酸乙酯在400℃下沉积的正硅酸乙酯基等离子增强化学气相沉积氧化膜的性能和电学表征
机译:正硅酸乙酯改性牙科复合树脂填料的表征及其弯曲强度
机译:掺Er〜(3+)YbPO_4纳米粒子的有机无机纳米杂化膜的近红外发光行为
机译:含稀土离子的低温溶胶凝胶有机无机杂化膜的发光特性
机译:高型低体积电阻训练的影响结合对肌肉肥大和强度的临界反思
机译:计算机辅助加工陶瓷可压陶瓷和铣削金属植入物基台顶盖的结合强度的比较评估以及表面调节对结合强度的影响:体外研究
机译:表面处理对氧化锆增强陶瓷与复合树脂结合强度的影响表面处理对氧化锆增强陶瓷与复合树脂结合强度的影响
机译:有机无机养分对黑水河流域光合作用和211异养浮游生物群落的影响
机译:有机无机杂化膜的制造方法以及有机无机杂化膜
机译:有机无机杂化膜
机译:有机无机杂化材料,使得杂化膜及其生产方式无效
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