首页> 中文期刊> 《功能材料》 >低磁场条件下(Gd1-xREx)5Si4(RE:Dy,Tb;x=0、0.1、0.125、0.15)合金磁热效应研究术

低磁场条件下(Gd1-xREx)5Si4(RE:Dy,Tb;x=0、0.1、0.125、0.15)合金磁热效应研究术

     

摘要

用高频真空悬浮炉在氲气保护下制备了(Gd1-xREx)5Si4(RE:Dy,Tb;x=0、0.1、0.125、0.15)和(Gd1-xREx)5Si4(x=0.1、0.125)合金样品,用直接测量方法测定了在永磁体提供的低磁场(H=1.3T)条件下样品的磁热效应曲线(△Tab-T);结果表明,用稀土金属Dy、Tb分别部分替代Gd5Si4合金中的Gd原子,不能增强合金的磁热效应,但可在333~300K范围改变材料的居里温度,且磁热效应峰值范围变宽.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号