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杨杰; 王茺; 欧阳焜; 杨瑞东; 刘芳; 杨宇;
云南大学工程技术研究院光电信息材料研究所,云南,昆明,650091;
红河学院物理系,云南,蒙自,661100;
离子束溅射; Ge纳米薄膜; 表面形貌; 退火;
机译:离子束溅射Ti-Ni薄膜的生长和表面形貌
机译:离子束溅射在Si衬底和Si / Ge超晶格上生长Ge膜
机译:用于在石墨烯/ SiO_ / Si衬底上直接生长Ge量子点的离子束溅射沉积技术
机译:钇铁石榴石纳米薄膜:外延生长,阻尼,自旋泵浦和磁性邻近效应。
机译:离子束溅射在吉尔伯特阻尼很小的Si(100)上生长Co2FeAl Heusler合金薄膜
机译:Ar +离子束溅射引起的硅表面形貌变化
机译:衬底取向对金属有机气相外延生长Gasb生长速率,表面形貌和硅掺入的影响
机译:用于观察锭生长过程的观察口以及使用该观察口生长锭的方法
机译:观察铸锭生长过程的观察口以及包括该观察口的铸锭生长装置
机译:用于观察锭的生长过程的观察口以及包括该观察口的锭生长装置
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