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高温与电子束辐照共同作用下SiOx材料的结构演化研究

     

摘要

本文利用透射电子显微镜原位加热技术研究了高温下SiOx材料的结构演化行为,并通过EELS谱分析了SiOx材料结构的化学组成变化.研究结果表明:在高温作用下,电子束辐照对SiOx材料的相分离过程起到了促进作用;高密度电子束辐照是SiOx材料中产生孔状结构的主要原因;SiOx材料在高温和电子束辐照作用下,会快速形成纳米硅镶嵌在多孔二氧化硅薄膜中的特殊结构.

著录项

  • 来源
    《电子显微学报》|2021年第4期|367-372|共6页
  • 作者单位

    天津工业大学材料科学与工程学院 天津300387;

    中国科学院宁波材料技术与工程研究所 浙江 宁波315201;

    天津大学材料科学与工程学院 天津300072;

    中国科学院宁波材料技术与工程研究所 浙江 宁波315201;

    天津工业大学材料科学与工程学院 天津300387;

    广东省科学院半导体研究所 广东 广州510650;

    中国电子科技集团公司第四十六研究所 天津300220;

    中国电子科技集团公司第四十六研究所 天津300220;

    天津工业大学材料科学与工程学院 天津300387;

    中国科学院宁波材料技术与工程研究所 浙江 宁波315201;

    天津大学材料科学与工程学院 天津300072;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 薄膜测量与分析;相变;再结晶;
  • 关键词

    SiOx材料; 电子束辐照; 原位TEM加热;

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