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陈迪春; 蒋百灵; 时惠英; 付杨洪;
西安理工大学,现代分析测试中心,陕西,西安,710048;
西安理工大学,材料科学与工程学院,陕西,西安,710048;
磁控溅射; C/W多层膜; TEM; XPS;
机译:SiC厚度对由反应磁控溅射合成(Alcrtizrv)N / SiC纳米多层膜的微观结构和力学性能的影响
机译:磁控溅射沉积Pb-Ti / MoS_2纳米多层膜的结构和摩擦学行为
机译:反应磁控溅射制备CrAlN / SiO2纳米多层膜的微观结构和超硬效应
机译:周期和不平衡程度对Cr / CrN磁控溅射纳米多层膜结构和电阻率的影响
机译:基准激光退火Si薄膜的微观结构分析与表面平面
机译:SC0.09Al0.91N和SC0.18A10.82N的外延生长通过磁控溅射对表面声波应用的磁控溅射薄膜
机译:采用非平衡磁控溅射技术制备Cr / CrN纳米多层膜的非均衡磁/电性能溅射技术制备Cr-CrN纳米多层膜的电学性能
机译:爆轰金刚石纳米粒子的微观结构分析。
机译:磁控溅射镀膜装置,纳米多层膜及其制备方法
机译:磁控溅射镀膜装置及纳米多层膜的制备方法
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