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张恒大; 刘敬明; 宋建华; 吕反修; 唐伟忠;
北京科技大学材料科学与工程学院;
CVD; 金刚石膜; 表面缺陷; 成因分析; 等离子体喷射; 晶内缺陷; 晶界缺陷; 化学气相沉积;
机译:在(113)取向衬底上生长的CVD金刚石膜中NV缺陷的优先取向
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机译:MPCVD金刚石膜中的针孔缺陷
机译:UHREM:Z形双相互作用的CVD金刚石膜生长缺陷核心结构的表征
机译:CVD金刚石膜的多步骤处理和应力降低
机译:使用SCCVD金刚石膜微量倍细仪在临床质子束中同时测量剂量和微量谱谱
机译:掺硼CVD金刚石膜。第一部分。历史,生产和表征掺硼CVD金刚石膜。第一部分。历史,生产和特征
机译:正电子湮没法在其他方法中辐射缺陷和缺陷研究中的应用。 1981年12月至1985年12月期间的最终报告
机译:有条件复制中的缺陷巨细胞病毒(cmv),组成,诱导针对cmv的免疫应答以及在有条件复制中制备有缺陷的cmv的方法以及有缺陷的cmv在有条件复制中的用途
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机译:铸坯中缺陷的检测和检测方法,铸坯的制造方法,铸坯中缺陷的检测和检测装置以及具有铸坯中缺陷的检测和检测装置的连续铸造设备
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