MPCVD金刚石膜装置中 Ar的光谱特性分析

杜康; 徐伟; 吴智量

首页> 中文期刊> 《物理实验》 >MPCVD金刚石膜装置中 Ar的光谱特性分析

MPCVD金刚石膜装置中 Ar的光谱特性分析

开具论文收录证明 >>

期刊封面封底目录下载 >>

文献代查 >>

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

在MPCVD装置中,通过调节微波功率、气体流量及反应压强,使用高分辨率的多道光学分析仪采集得到Ar的400～440 nm光谱,利用玻耳兹曼"斜率法"得到Ar激发温度Texc. 结果显示:随气体流量增加Texc降低;随着微波功率的增加Texc升高;谱线强度随着功率的增加而上升,在550 W及700 W处开始降低继而又上升,此点是制备金刚石膜的功率关键点.

著录项

来源
《物理实验》 |2009年第11期|1-4|共4页
作者
杜康; 徐伟; 吴智量;
展开▼
作者单位

广州大学,物理与电子工程学院,广东,广州,510006;

广州大学,物理与电子工程学院,广东,广州,510006;

广州大学,物理与电子工程学院,广东,广州,510006;

展开▼
原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜物理学;
关键词
MPCVD; 金刚石膜; 发射光谱; 激发温度; 谱线强度;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 近场拉曼光谱实验装置及CVD金刚石膜的近场拉曼光谱 [J] . 王晶晶 ,阎宏 ,邓宇俊 . 光散射学报 . 2001,第001期
2. MPCVD金刚石膜装置的研究进展 [J] . 刘繁 ,翁俊 ,汪建华 . 真空与低温 . 2016,第003期
3. 新型高功率MPCVD金刚石膜装置的数值模拟与实验研究 [J] . 安康 ,刘小萍 ,李晓静 . 人工晶体学报 . 2015,第6期
4. MPEGD光源中的工作气体Ar的光谱特性的研究 [J] . 李一木 ,刘鸿石 . 光谱学与光谱分析 . 1997,第004期
5. 不同波长的Ar+激光诱导红细胞荧光光谱特性分析 [J] . 高淑梅 ,兰秀风 ,刘莹 . 激光技术 . 2004,第003期
6. 高功率MPCVD金刚石膜红外光学材料制备研究 [C] . 于盛旺 ,黑鸿君 ,刘艳青 . 第三届红外成像系统仿真测试与评价技术研讨会 . 2011
7. 基于上海EBIT装置的Ar等离子体光谱研究及其对聚变等离子体光谱伴线研究的意义 [A] . 耿志贤 . 2011

MPCVD金刚石膜装置中 Ar的光谱特性分析

摘要

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅