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轨道分子屏极高真空实验室设计技术研究

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给出了一种新型的近地轨道极高真空分子屏实验室设计.作者计算了可变翼分子屏周围大气分子的入射及散射、分子屏材料放气在屏内的分子数流密度.通过调整分子屏的翼角,分子屏内的压力可以达到10-12Pa.计算结果指出:在近地轨道选择合适的分子屏参数,可以在极高真空环境下加工超纯材料.

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来源
《宇航学报》 |2005年第2期|121-125,167|共6页
作者
达道安; 崔志云; 杨亚天;
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作者单位

兰州物理研究所,甘肃,730000;

河北大学,河北,保定,071000;

福建师范大学,物理系,福建,福州,350007;

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正文语种 chi
中图分类真空物理学;
关键词
极高真空; 轨道分子屏; 材料加工;

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