NA1.35投影光刻光学系统偏振像差的优化

摘要

为了实现NA1.35投影光刻光学系统高质量成像,在设计过程中除了控制波像差,还需进一步优化光学系统的偏振像差.利用Jones光瞳和物理光瞳表达了NA1.35投影光刻光学系统的偏振像差,并用二向衰减量与延迟量分析了光学系统偏振像差的大小;根据光线入射到不同光学面上最大入射角度的不同,为每个光学面设计相应的膜系以优化光学系统的偏振像差.相比于采用常规膜系,膜系优化后NA1.35投影光刻光学系统的二向衰减量和延迟量分别减小到了0.021 8、0.057 2 rad,即减小了光学系统的偏振像差.利用Prolith光刻仿真软件,分别对采用常规膜系和优化膜系的NA1.35投影光刻光学系统进行曝光性能仿真,结果显示:膜系优化后光学系统的成像对比度提高了4.4％,证明了NA1.35投影光刻光学系统偏振像差优化方法的有效性.