氢氧化钾各向异性腐蚀制作近拟圆形单晶硅膜的掩膜补偿技术

摘要

本文介绍我们通过掩膜图形的设计，在（１００）单晶硅上利用氢氧化钾各向异性腐蚀制作 错综合复杂的正八边形单硅膜的方法。