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袁学翔; 朱德贵;
西南交通大学,材料先进技术教育部重点实验室,成都,610031;
相变光盘; GaSbBi; 热等静压; Bi掺杂;
机译:GaSbBi(As)/ GaSb薄膜的表面形态和Bi掺入
机译:相变光盘模型与不规则性相变光盘模型光束散射和检测信号特性的数值分析
机译:用GaSb材料表征超快速相变光盘
机译:控制金属有机气相外延生长的III-V薄膜中Bi掺入的热力学和动力学因素
机译:掺s的合成及相变研究Bi4V2O11纳米粒子及其四环素在可见光光催化降解中的应用药品
机译:熔化期间掺入相变材料中的相变材料的传热研究
机译:衬底取向对金属有机气相外延生长Gasb生长速率,表面形貌和硅掺入的影响
机译:Gasb相变类型记录膜在形成此Gasb相变类型记录膜的记录标记和溅射靶的货架稳定性方面表现出色
机译:低熔点低结晶温度和溅射靶的基于GaSb的相变型记录膜,用于形成基于Gasb的相变型记录膜
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