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均匀软X射线多层膜制备方法研究

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摘要

介绍了基于速度调制技术的均匀软X射线多层膜制备方法,并采用该方法在直径为150mm的平面硅基板上制备出Mo/Si多层膜,其中心波长为13.5nm,膜厚空间非均匀性优于1%,较转盘匀速溅射方法制备的多层膜膜厚空间均匀性提高了近6倍.

著录项

来源
《强激光与粒子束》 |2003年第5期|444-446|共3页
作者
金春水; 林强; 马月英; 裴舒; 曹健林;
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作者单位

中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,吉林,长春,130022;

中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,吉林,长春,130022;

中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,吉林,长春,130022;

中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,吉林,长春,130022;

中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,吉林,长春,130022;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类与物质的相互作用;
关键词
软X射线; 多层膜; 磁控溅射; 均匀性;

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