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Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography
Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography
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1.
Polarimetry of HI Lyman-alpha for coronal magnetic field diagnostics
机译:
HILyman-α的旋光法用于冠状磁场诊断
作者:
Silvano Fineschi
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Richard B. Hoover
;
NASA Marshall Space Flight Ctr.
;
Huntsville
;
AL
;
USA
;
Muamer Zukic
;
Univ. of Alabama in Huntsville
;
Huntsville
;
AL
;
USA
;
Jongmin Kim
;
Univ. of Alabama in Hunts
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
2.
Precision of the calibration of the AXAF engineering test article mirrors
机译:
AXAF工程测试镜的校准精度
作者:
Daniel A. Schwartz
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
George Chartas
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
John P. Hughes
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Edwin M. Kellogg
;
Smithson
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
3.
Optical performance prediction of thin-walled Wolter type I mirror shells for x-rays in the 1- to 8-keV energy range
机译:
薄壁Wolter I型镜壳在1至8 keV能量范围内用于X射线的光学性能预测
作者:
Holger Glatzel
;
Carl Zeiss
;
Oberkochen
;
Federal Republic of Germany
;
Dieter Pauschinger
;
Carl Zeiss
;
Oberkochen
;
Federal Republic of Germany
;
H.-J. Frasch
;
Carl Zeiss
;
Oberkochen
;
Federal Republic of Germany
;
Herbert Gross
;
Carl Zeiss
;
Oberkochen
;
Federal
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
4.
Multispectral solar telescope array: initial results and future plans
机译:
多光谱太阳望远镜阵列:初步结果和未来计划
作者:
Arthur B. Walker
;
Jr.
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Richard B. Hoover
;
NASA Marshall Space Flight Ctr.
;
Huntsville
;
AL
;
USA
;
Troy W. Barbee
;
Jr.
;
Lawrence Livermore National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
5.
Molecular contamination and the calibration of AXAF
机译:
分子污染和AXAF的标定
作者:
Ronald F. Elsner
;
NASA Marshall Space Flight Ctr.
;
Huntsville
;
AL
;
USA
;
Stephen L. ODell
;
NASA Marshall Space Flight Ctr.
;
Huntsville
;
AL
;
USA
;
Martin C. Weisskopf
;
NASA Marshall Space Flight Ctr.
;
Huntsville
;
AL
;
USA.
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
6.
Nonspecular x-ray scattering from Si/Mo multilayers
机译:
Si / Mo多层膜的非镜面x射线散射
作者:
Jon M. Slaughter
;
Optical Sciences Ctr./Univ. of Arizona
;
Tucson
;
AZ
;
USA
;
Charles M. Falco
;
Optical Sciences Ctr./Univ. of Arizona
;
Tucson
;
AZ
;
USA.
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
7.
New method for achieving accurate thickness control for uniform and graded multilayer coatings on large flat substrates
机译:
实现大型平板基底上均匀且渐变的多层涂层的精确厚度控制的新方法
作者:
Georgy Gutman
;
Ovonic Synthetic Materials Co.
;
Troy
;
MI
;
USA
;
John E. Keem
;
Ovonic Synthetic Materials Co.
;
Troy
;
MI
;
USA
;
Kevin Parker
;
Ovonic Synthetic Materials Co.
;
Troy
;
MI
;
USA
;
James L. Wood
;
Ovonic Synthetic Materials Co.
;
Troy
;
MI
;
USA
;
Richard N
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
8.
Improved thermal stability of sputtered W/C multilayer thin films
机译:
改进的溅射W / C多层薄膜的热稳定性
作者:
Jesus Gonzalez-Hernandez
;
Energy Conversion Devices
;
Inc.
;
Troy
;
MI
;
USA
;
Benjamin S. Chao
;
Energy Conversion Devices
;
Inc.
;
Troy
;
MI
;
USA
;
A.R. Chan
;
Energy Conversion Devices
;
Inc.
;
Troy
;
MI
;
USA
;
J.M. Gavulic
;
Energy Conversion Devices
;
Inc.
;
Troy
;
MI
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
9.
Graded period multilayer structures for x-ray optics
机译:
用于X射线光学器件的渐变周期多层结构
作者:
Peter J. Biltoft
;
Lawrence Livermore National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Steven Falabella
;
Lawrence Livermore National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Ralph F. Pombo
;
Lawrence Livermore National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Edward H. Noble
;
Lawrence Livermore Natio
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
10.
High-reflectance coatings for space a
机译:
太空用高反射涂层
作者:
Ritva A. Keski-Kuha
;
NASA Goddard Space Flight Ctr.
;
Greenbelt
;
MD
;
USA
;
Jeffrey S. Gum
;
NASA Goddard Space Flight Ctr.
;
Greenbelt
;
MD
;
USA
;
John F. Osantowski
;
NASA Goddard Space Flight Ctr.
;
Greenbelt
;
MD
;
USA
;
Charles M. Fleetwood
;
NASA Goddard Space F
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
11.
High-energy x-ray reflectivity and scattering study from spectrum-x-gamma flight mirrors
机译:
光谱-x-γ飞行镜的高能x射线反射率和散射研究
作者:
Finn E. Christensen
;
Danish Space Research Institute
;
Lyngby
;
Denmark
;
Carl Budtz-Jorgensen
;
Danish Space Research Institute
;
Lyngby
;
Denmark
;
P.Frederiksen
;
Danish Space Research Institute
;
Lyngby
;
Denmark
;
N.J. Westergaard
;
Danish Space Research Institu
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
12.
Evidence for dust contamination on the VETA-I mirror surface
机译:
VETA-I镜面上有灰尘污染的证据
作者:
Jeffery J. Kolodziejczak
;
NASA Marshall Space Flight Ctr.
;
Huntsville
;
AL
;
USA
;
Stephen L. ODell
;
NASA Marshall Space Flight Ctr.
;
Huntsville
;
AL
;
USA
;
Ronald F. Elsner
;
NASA Marshall Space Flight Ctr.
;
Huntsville
;
AL
;
USA
;
Martin C. Weisskopf
;
NASA Mars
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
13.
Experiences with thin-film filter development for the extreme ultraviolet explorer
机译:
极紫外探测器的薄膜滤光片开发经验
作者:
John V. Vallerga
;
Univ. of California/Berkeley
;
Oakland
;
CA
;
USA
;
Peter W. Vedder
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Oswald H. Siegmund
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
14.
Design and fabrication of the all-reflecting H-Lyman alpha coronagraph/polarimeter
机译:
全反射H-Lymanα日冕仪/旋光仪的设计与制造
作者:
Richard B. Hoover
;
NASA Marshall Space Flight Ctr.
;
Huntsville
;
AL
;
USA
;
R. Barry Johnson
;
Optical E.T.C.
;
Inc.
;
Huntsville
;
AL
;
USA
;
Silvano Fineschi
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Arthur B. Walker
;
Jr.
;
Stanford Univ.
;
Stanf
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
15.
Comparison of ring-focus image profile with predictions for the AXAF VETA-I test
机译:
环形对焦图像轮廓与AXAF VETA-I测试预测的比较
作者:
David E. Zissa
;
NASA Marshall Space Flight Ctr.
;
Huntsville
;
AL
;
USA.
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
16.
Measurement and analysis of a set of mandrels for the JET-X x-ray optics
机译:
JET-X X射线光学系统的一组心轴的测量和分析
作者:
Rainer Boerret
;
Carl Zeiss
;
Oberkochen
;
Federal Republic of Germany
;
Holger Glatzel
;
Carl Zeiss
;
Oberkochen
;
Federal Republic of Germany
;
Klaus Beckstette
;
Carl Zeiss
;
Oberkochen
;
Federal Republic of Germany
;
Paolo Conconi
;
Osservatorio Astronomico di Bre
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
17.
Mirror cell design fabrication assembly and test for the AXAF VETA-I optics
机译:
AXAF VETA-I光学元件的镜单元设计制作组装和测试
作者:
Gary Matthews
;
Eastman Kodak Co.
;
Rochester
;
NY
;
USA
;
Arthur Buettner
;
Eastman Kodak Co.
;
Rochester
;
NY
;
USA
;
Thomas M. Casey
;
Eastman Kodak Co.
;
Fairport
;
NY
;
USA
;
Clyde Drauglis
;
Eastman Kodak Co.
;
Rochester
;
NY
;
USA
;
John LesVeaux
;
Eastman Kodak Co.
;
R
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
18.
Interferometric methods for assessment of toroidal diffraction grating performance
机译:
干涉法评估环形衍射光栅的性能
作者:
Phillip C. Baker
;
Baker Consulting
;
Walnut Creek
;
CA
;
USA
;
Paolo Bergamini
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Thomas E. Berger
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
J.G. Timothy
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
19.
Combined finite elements and ray-tracing analysis for the optical system of JET-X x-ray telescope
机译:
JET-X X射线望远镜光学系统的有限元与射线追踪分析相结合
作者:
Giancarlo Parodi
;
BCV Progetti S.r.l.
;
Milano
;
Italy
;
Renzo Buzzi
;
BCV Progetti S.r.l.
;
Milano
;
Italy
;
Oberto Citterio
;
Osservatorio Astronomico di Brera
;
Merate
;
Italy
;
Paolo Conconi
;
Osservatorio Astronomico di Brera
;
Merate
;
Italy.
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
20.
Correcting x-ray spectra obtained from the AXAF VETA-I mirror calibration for pileup continuum background and deadtime
机译:
校正从AXAF VETA-I镜子校准获得的X射线光谱,以获取堆积连续背景和死区时间
作者:
George Chartas
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Kathryn A. Flanagan
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
John P. Hughes
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Edwin M. Kellogg
;
Smithso
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
21.
Calibration of the multispectral solar telescope array multilayer mirrors and XUV filters
机译:
多光谱太阳望远镜阵列多层反射镜和XUV滤光片的校准
作者:
Maxwell J. Allen
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Thomas D. Willis
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Charles C. Kankelborg
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Ray H. ONeal
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Dennis S. Martinez-Galarce
;
Stanford Univ
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
22.
AXAF VETA test: an overview
机译:
AXAF VETA测试:概述
作者:
Martin C. Weisskopf
;
NASA Marshall Space Flight Ctr.
;
Huntsville
;
AL
;
USA.
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
23.
AXAF VETA-I mirror encircled energy measurements and data reduction
机译:
AXAF VETA-I镜像环绕式能量测量和数据缩减
作者:
Ping Zhao
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Mark D. Freeman
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
John P. Hughes
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Edwin M. Kellogg
;
Smithsonian Astr
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
24.
Alignment of the AXAF verification test article-I
机译:
AXAF验证测试文章的对齐方式-I
作者:
Mark Waldman
;
Eastman Kodak Co.
;
Penfield
;
NY
;
USA
;
Scott C. Texter
;
TRW
;
Inc.
;
Los Angeles
;
CA
;
USA.
会议名称:
《》
|
1992年
25.
Multilayer diffraction at 104-keV
机译:
104keV的多层衍射
作者:
Allen S. Krieger
;
Radiation Science
;
Inc.
;
Belmont
;
MA
;
USA
;
Richard L. Blake
;
Los Alamos National Lab.
;
Upton
;
Long Island
;
NY
;
USA
;
D.P. Siddons
;
Brookhaven National Lab.
;
Upton
;
Long Island
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
26.
W/C multilayers deposited on plastic films
机译:
W / C多层沉积在塑料薄膜上
作者:
Shoji Seki
;
Nitto Denko Corp.
;
Ibaraki
;
Osaka
;
Japan
;
Tsukasa Miyazaki
;
Nitto Denko Corp.
;
Ibaraki
;
Osaka
;
Japan
;
Motoshige Tatsumi
;
Nitto Denko Corp.
;
Ibaraki
;
Osaka
;
Japan
;
Koujun Yamashita
;
Institute of Space
;
Astronautical Science
;
Nagoya
;
Japan.
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
27.
X-ray telescopes aboard Fobos I and Coronas
机译:
Fobos I和Coronas上的X射线望远镜
作者:
Igor I. Sobelman
;
P.N. Lebedev Physical Institute
;
Moscow
;
Russia
;
I.A. Zhitnik
;
P.N. Lebedev Physical Institute
;
Moscow
;
Russia.
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
28.
Ultrahigh-resolution photographic films for x-ray/EUV/FUV astronomy
机译:
用于X射线/ EUV / FUV天文学的超高分辨率摄影胶片
作者:
Richard B. Hoover
;
NASA Marshall Space Flight Ctr.
;
Huntsville
;
AL
;
USA
;
Arthur B. Walker
;
Jr.
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Craig E. DeForest
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Richard N. Watts
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithers
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
29.
VETA x-ray data acquisition and control system
机译:
VETA X射线数据采集和控制系统
作者:
Roger J. Brissenden
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Mark T. Jones
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Malin Ljungberg
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Dan T. Nguyen
;
Smithsonia
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
30.
Thin-film filter lifetesting results in the extreme ultraviolet
机译:
薄膜滤光片寿命测试可产生极紫外光
作者:
Peter W. Vedder
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
John V. Vallerga
;
Univ. of California/Berkeley
;
Oakland
;
CA
;
USA
;
James L. Gibson
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Joseph M. Stock
;
Univ. of California/Berkeley
;
Walnut Cre
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
31.
Surface finish quality of the outer AXAF mirror pair based on x-ray measurements of the VETA-I
机译:
基于VETA-I的X射线测量结果,外部AXAF反射镜对的表面光洁度质量
作者:
John P. Hughes
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Daniel A. Schwartz
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Andrew H. Szentgyorgyi
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Arlington
;
MA
;
USA
;
Leon P. Van Speybr
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
32.
Results of x-ray measurements on electroformed mirror shells for the XMM project
机译:
XMM项目在电铸镜壳上进行X射线测量的结果
作者:
Author(s): Oberto Citterio Osservatorio Astronomico di Brera Merate Italy
;
Paolo Conconi Osservatorio Astronomico di Brera Merate Italy
;
M.Ghigo Osservatorio Astronomico di Brera Merate Italy
;
F.Mazzoleni Osservatorio Astronomico di Brera Merat
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
33.
Code to perform numerical random vibration analysis
机译:
用于执行数值随机振动分析的代码
作者:
Renzo Buzzi
;
BCV Progetti S.r.l.
;
Milano
;
Italy
;
Giancarlo Parodi
;
BCV Progetti S.r.l.
;
Milano
;
Italy
;
Federico Perotti
;
Politecnico di Milano
;
Milano
;
Italy.
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
34.
Chromospheric and coronal observations with multilayer optics
机译:
多层光学系统的色球和日冕观测
作者:
Arthur B. Walker
;
Jr.
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Richard B. Hoover
;
NASA Marshall Space Flight Ctr.
;
Huntsville
;
AL
;
USA
;
Troy W. Barbee
;
Jr.
;
Lawrence Livermore National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
35.
Characterization of molybdenum/silicon multilayers deposited by ion beam sputtering and rf magnetron sputtering
机译:
离子束溅射和射频磁控溅射沉积的钼/硅多层膜的表征
作者:
Katsuhiko Murakami
;
Nikon Corp.
;
Tokyo
;
Japan
;
Hiroshi Nakamura
;
Nikon Corp.
;
Tokyo
;
Japan
;
Tetsuya Oshino
;
Nikon Corp.
;
Tokyo
;
Japan
;
Masayuki Ohtani
;
Nikon Corp.
;
Tokyo
;
Japan
;
Hiroshi Nagata
;
Nikon Corp.
;
Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
36.
Characterization of WCx/B4C multilayers sputtered in argon/methane atmospheres
机译:
在氩气/甲烷气氛中溅射的WCx / B4C多层膜的表征
作者:
Patrick E. Diehl
;
Arizona State Univ.
;
Denton
;
TX
;
USA
;
Mark W. Lund
;
MOXTEK Inc.
;
Orem
;
UT
;
USA
;
David W. Madsen
;
MOXTEK Inc.
;
Provo
;
UT
;
USA
;
Larry C. McIntyre
;
Jr.
;
Univ. of Arizona
;
Tucson
;
AZ
;
USA
;
David J. Smith
;
Arizona State Univ.
;
Tempe
;
AZ
;
USA.
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
37.
X-ray evidence for particulate contamination on the AXAF VETA-I mirrors
机译:
AXAF VETA-I反射镜上的微粒污染的X射线证据
作者:
Stephen L. ODell
;
NASA Marshall Space Flight Ctr.
;
Huntsville
;
AL
;
USA
;
Ronald F. Elsner
;
NASA Marshall Space Flight Ctr.
;
Huntsville
;
AL
;
USA
;
Jeffery J. Kolodziejczak
;
NASA Marshall Space Flight Ctr.
;
Huntsville
;
AL
;
USA
;
Martin C. Weisskopf
;
NASA Mars
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
38.
X-ray reflectivity of the AXAF Veta-I optics
机译:
AXAF Veta-I光学元件的X射线反射率
作者:
Edwin M. Kellogg
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
George Chartas
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Dale E. Graessle
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
John P. Hughes
;
Smithsonia
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
39.
Ultrahigh-resolution images of the solar chromosphere and corona using coordinated rocket and balloon observations
机译:
太阳色球和日冕的超高分辨率图像,使用了火箭和气球的协调观测
作者:
Arthur B. Walker
;
Jr.
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
J.G. Timothy
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Richard B. Hoover
;
NASA Marshall Space Flight Ctr.
;
Huntsville
;
AL
;
USA
;
Troy W. Barbee
;
Jr.
;
Lawrence Livermore National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
40.
Uniformity results of the multilayer mirrors used in the ALEXIS ultrasoft x-ray telescopes
机译:
ALEXIS超软X射线望远镜中使用的多层反射镜的均匀性结果
作者:
Diane C. Roussel-Dupre
;
Los Alamos National Lab.
;
Los Alamos
;
NM
;
USA
;
Frank P. Ameduri
;
Los Alamos National Lab.
;
Los Alamos
;
NM
;
USA.
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
41.
VETA-I x-ray detection system
机译:
VETA-I X射线检测系统
作者:
William A. Podgorski
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Kathryn A. Flanagan
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Mark D. Freeman
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
R.E. Goddard
;
Smit
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
42.
Tuning multilayered mirror light traps for rejection of 30.4-nm radiation
机译:
调整多层镜面光阱以抑制30.4 nm的辐射
作者:
Jean-Pierre Delaboudiniere
;
Institut dAstrophysique Spatiale/Univ. Paris-XI
;
Verrieres le Buisson Cedex
;
France
;
Jean-Francois E. Hochedez
;
Institut dAstrophysique Spatiale/Univ. Paris-XI
;
La Chapelle en Serval
;
France
;
Jean-Pierre Chauvineau
;
Centre Un
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
43.
Source of soft x-rays with an x-ray optical system for submicron lithography
机译:
具有用于亚微米光刻的X射线光学系统的软X射线源
作者:
A.A. Karnaukhov
;
Institute for Roentgen Optical Systems
;
I.V. Kurch atov Atomic E
;
Albany
;
NY
;
USA
;
Alexandre I. Kolomitsev
;
Institute for Roentgen Optical Systems
;
I.V. Kurch atov Atomic E
;
Albany
;
NY
;
USA
;
Muradin A. Kumakhov
;
Institute for Roentgen Optic
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
44.
Study on x-ray multilayer monochromator
机译:
X射线多层单色仪的研究
作者:
Changxin Zhou
;
Changchun Institute of Optics
;
Fine Mechanics
;
Changchun
;
Jilin
;
China
;
Mao-Lian Li
;
Changchun Institute of Optics
;
Fine Mechanics
;
Changchun
;
Jilin
;
China
;
Tongqun Miao
;
Changchun Institute of Optics
;
Fine Mechanics
;
Changchun
;
Jilin
;
China
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
45.
Application of aberration theory to calculate encircled energy of Wolter I-II telescopes
机译:
像差理论在计算沃尔特I-II望远镜的环绕能量中的应用
作者:
Author(s): Shao-Hua H. Chao Hualien Teachers College Hualien Taiwan
;
David L. Shealy Univ. of Alabama/Birmingham Birmingham AL USA.
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
46.
Fabrication thermal stability and reflectivity measurements of Mo/Si multilayers as x-ray mirrors and other optical components
机译:
Mo / Si多层作为X射线镜和其他光学组件的制造热稳定性和反射率测量
作者:
Author(s): Andreas Kloidt Univ. Bielefeld Bielefeld Federal Republic of Germany
;
H.J. Stock Univ. Bielefeld Bielefeld Federal Republic of Germany
;
Ulf Kleineberg Univ. Bielefeld Bielefeld Federal Republic of Germany
;
T.Doehring Univ. Bielefeld
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
47.
Soft x-ray reflectometry program at the National Insitute of Standards and Technology
机译:
美国国家标准技术研究院的软X射线反射仪计划
作者:
Richard N. Watts
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
;
MD
;
USA
;
Thomas B. Lucatorto
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
;
MD
;
USA
;
Charles Tarrio
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
;
MD
;
USA.
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
48.
Reflectance calibrations of AXAF mirror samples at absorption edges using synchrotron radiation
机译:
使用同步加速器辐射在吸收边缘对AXAF反射镜样品进行反射率校准
作者:
Dale E. Graessle
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
T.H. Burbine
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
J.C. Cobuzzi
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Edwin M. Kellogg
;
Smithsonian As
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
49.
Production of thin-walled lightweight CFRP/EPOXY x-ray mirrors for the XMM telescope
机译:
为XMM望远镜生产薄壁轻质CFRP / EPOXY X射线反射镜
作者:
Dieter Pauschinger
;
Carl Zeiss
;
Oberkochen
;
Federal Republic of Germany
;
Wilhelm J. Egle
;
Carl Zeiss
;
Oberkochen
;
Federal Republic of Germany
;
Walter Neumann
;
Carl Zeiss
;
Oberkochen
;
Federal Republic of Germany
;
Holger Glatzel
;
Carl Zeiss
;
Oberkochen
;
Fed
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
50.
Present and future requirements of soft x-ray projection lithography
机译:
软X射线投影光刻的当前和未来要求
作者:
Hiroo Kinoshita
;
NTT LSI Labs.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
51.
Optical constants from mirror reflectivities measured at synchrotrons
机译:
在同步加速器处测得的镜面反射率的光学常数
作者:
Richard L. Blake
;
Los Alamos National Lab.
;
Upton
;
Long Island
;
NY
;
USA
;
Jeffrey C. Davis
;
Los Alamos National Lab.
;
Upton
;
Long Island
;
NY
;
USA
;
T.H. Burbine
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Dale E. Graessle
;
Smithsonian Astrop
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
52.
Motion detection system for AXAF x-ray ground testing
机译:
用于AXAF X射线地面测试的运动检测系统
作者:
Jonathan W. Arenberg
;
TRW Space
;
Technology Group
;
Redondo Beach
;
CA
;
USA
;
Scott C. Texter
;
TRW
;
Inc.
;
Los Angeles
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
53.
Multilayer thin-film design as far-ultraviolet polarizers
机译:
多层薄膜设计为远紫外偏振片
作者:
Jongmin Kim
;
Univ. of Alabama in Huntsville
;
Huntsville
;
AL
;
USA
;
Muamer Zukic
;
Univ. of Alabama in Huntsville
;
Huntsville
;
AL
;
USA
;
Douglas G. Torr
;
Univ. of Alabama in Huntsville
;
Huntsville
;
AL
;
USA.
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
54.
Multilayer thin-film design as far-ultraviolet quarterwave retarders
机译:
多层薄膜设计作为远紫外线四分之一波长延迟器
作者:
Jongmin Kim
;
Univ. of Alabama in Huntsville
;
Huntsville
;
AL
;
USA
;
Muamer Zukic
;
Univ. of Alabama in Huntsville
;
Huntsville
;
AL
;
USA
;
Douglas G. Torr
;
Univ. of Alabama in Huntsville
;
Huntsville
;
AL
;
USA
;
Michele M. Wilson
;
Univ. of Alabama in Huntsville
;
H
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
55.
Multilayer phase-diffraction gratings modeled as a structure in three dimensions
机译:
三维结构的多层相衍射光栅
作者:
Douglas P. Hansen
;
Brigham Young Univ.
;
MOXTEK
;
Inc.
;
Provo
;
UT
;
USA
;
Arturo Reyes-Mena
;
Brigham Young Univ.
;
Provo
;
UT
;
USA
;
John Colton
;
Brigham Young Univ.
;
MOXTEK
;
Inc.
;
Provo
;
UT
;
USA
;
Larry V. Knight
;
Brigham Young Univ.
;
MOXTEK
;
Inc.
;
Provo
;
UT
;
USA
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
56.
Application of aberration theory to calculate encircled energy of WolterI-II telescopes,
机译:
像差理论在计算WolterI-II望远镜的环绕能量时的应用,
作者:
Shao-Hua H. Chao
;
Hualien Teachers College
;
Hualien
;
Taiwan
;
David L. Shealy
;
Univ. of Alabama/Birmingham
;
Birmingham
;
AL
;
USA.
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
57.
New multilayer targets to generate bremsstrahlung radiation
机译:
产生multilayer致辐射的新型多层靶
作者:
Yu. I. Dudchik
;
Univ. of Beylorussia
;
Minsk
;
Belarus
;
F.F. Komarov
;
Univ. of Beylorussia
;
220064-Minsk
;
Belarus
;
D.G. Lobotsky
;
Univ. of Beylorussia
;
Minsk
;
Belarus
;
V.S. Soloviev
;
Univ. of Beylorussia
;
Minsk
;
Belarus
;
V.S. Tishkov
;
Univ. of Beylorussia
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
58.
Ni/C and Rh/C multilayers for soft x-ray optics: influence of the deposition conditions on the nanostructure
机译:
Ni / C和Rh / C多层软X射线光学器件:沉积条件对纳米结构的影响
作者:
Pierre Boher
;
Labs. dElectronique Philips
;
Limeil-Brevannes Cedex
;
France
;
Philippe Houdy
;
Labs. dElectronique Philips
;
Limeil-Brevannes Cedex
;
France
;
M.Ouahabi
;
Univ. Paris VI
;
Paris Cedex 05
;
France
;
Robert J. Barchewitz
;
Univ. Paris VI
;
Paris Cedex
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
59.
New test facility for reflectivity measurements in the extreme ultraviolet spectral region
机译:
用于在极端紫外光谱范围内测量反射率的新测试设备
作者:
Paolo Villoresi
;
Univ. di Padova
;
Treuiso
;
Italy
;
Giampiero Naletto
;
Univ. di Padova
;
Padova
;
Italy
;
Piergiorgio Nicolosi
;
Univ. di Padova
;
Padova
;
Italy
;
Giuseppe Tondello
;
Univ. di Padova
;
Padova
;
Italy
;
Ermanno Jannitti
;
Istituto Gas Ionizzati C.N.R.
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
60.
Large-area soft x-ray projection lithography using multilayer mirrors structured by RIE
机译:
使用RIE构造的多层反射镜进行大面积软X射线投影光刻
作者:
S.Rahn
;
Univ. Bonn
;
Bielefeld
;
Federal Republic of Germany
;
Andreas Kloidt
;
Univ. Bielefeld
;
Bielefeld
;
Federal Republic of Germany
;
Ulf Kleineberg
;
Univ. Bielefeld
;
Bielefeld
;
Federal Republic of Germany
;
Bernt Schmiedeskamp
;
Univ. Bielefeld
;
Bielefeld
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
61.
Manufacturing metrology and assembly of the mirror system for the CDS-EM
机译:
CDS-EM的制造计量和反射镜系统的组装
作者:
Udo Dinger
;
Carl Zeiss
;
Oberkochen
;
Federal Republic of Germany
;
T.Petasch
;
Carl Zeiss
;
Oberkochen
;
Federal Republic of Germany
;
C.W. Kuebler
;
Carl Zeiss
;
Oberkochen
;
Federal Republic of Germany
;
A.Ebert
;
Carl Zeiss
;
Oberkochen
;
Federal Republic of German
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
62.
Intensity distribution of the x-ray source for the AXAF VETA-I mirror test
机译:
AXAF VETA-I反射镜测试的X射线源强度分布
作者:
Ping Zhao
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Edwin M. Kellogg
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Daniel A. Schwartz
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Yibo Shao
;
Smithsonian Astrop
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
63.
Imaging Schwarzschild multilayer x-ray microscope
机译:
成像Schwarzschild多层X射线显微镜
作者:
Richard B. Hoover
;
NASA Marshall Space Flight Ctr.
;
Huntsville
;
AL
;
USA
;
Phillip C. Baker
;
Baker Consulting
;
Walnut Creek
;
CA
;
USA
;
David L. Shealy
;
Univ. of Alabama/Birmingham
;
Birmingham
;
AL
;
USA
;
Dave B. Gore
;
Univ. of Alabama/Birmingham
;
Birmingham
;
A
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
64.
Image analysis of the AXAF VETA-I x-ray mirror
机译:
AXAF VETA-I X射线反射镜的图像分析
作者:
Mark D. Freeman
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
John P. Hughes
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Leon P. Van Speybroeck
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
James W. Bilbro
;
NASA
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
65.
Fabrication and performance of linear multilayer gratings in the 44-130 Angstrom wavelength range
机译:
线性多层光栅在44-130埃波长范围内的制作和性能
作者:
Pierre Boher
;
Labs. dElectronique Philips
;
Limeil-Brevannes Cedex
;
France
;
Philippe Houdy
;
Labs. dElectronique Philips
;
Limeil-Brevannes Cedex
;
France
;
Chantal Khan Malek
;
CNET-CNRS
;
Bagneux
;
France
;
F.R. Ladan
;
CNET-CNRS
;
Bagneux
;
France
;
S.Bac
;
Ctr. d
会议名称:
《Multilayer and Grazing Incidence X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Projection Lithography》
|
1992年
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