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田光磊; 黄建兵; 贺洪波; 邵建达;
中国科学院,上海光学精密机械研究所,薄膜中心,上海,201800;
退火; ZrO2薄膜; 激光损伤阈值; X射线衍射; 弱吸收;
机译:ZrO2涂层的组织和激光损伤阈值与退火温度的关系
机译:时间-温度梯度退火对TiO _2薄膜的微观结构,光学性能和激光损伤阈值的影响
机译:退火对非晶态Ta_2O_5薄膜激光损伤阈值的影响
机译:薄膜沉积速率和热退火对无定形TA {} 20 {} 5和SiO} 2薄膜的光学和微结构演化的影响
机译:感应加热的铁磁薄膜对多晶硅微结构的局部退火。
机译:基于环境后金属退火和恒压应力的Al2O3 / ZrO2和Al2O3 / HfO2双层薄膜的边界陷阱表征
机译:高温退火对Ta 2 inf> O 5 inf>薄膜的结构,光学性能和激光损伤阈值的影响
机译:ZrO2对BaTiO3陶瓷显微结构和介电性能的影响及加工效果
机译:晶体ZrO2薄膜的生产方法及晶体ZrO2薄膜
机译:柱状微结构介电薄膜的沉积方法及其介电薄膜结构,能够通过改变基体和振荡的振荡速度来获得介电薄膜的各种柱状微结构。
机译:用于薄膜半导体结构的退火,用于薄膜半导体的退火方法,薄膜半导体器件,薄膜半导体器件制造方法和显示器件。
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