高抗蚀性的聚酯型光刻胶

摘要

聚酯型光刻胶是国内常用的光刻胶,其特点是分辨率高,可以刻蚀1～2μm的细线,因此在集成电路器件工业中常用于刻蚀细线。国内目前生产的聚酯型光刻胶是聚肉桂叉丙二酸乙二酯(乙胶),虽可刻蚀细线但抗蚀性较差,如提高其分子量以满足抗蚀性,则又仅可用于刻蚀4μm左右的线条。