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IshiiA; 若河;
不详;
DLC薄膜; 沉积; 等离子体应用; 薄膜;
机译:碰撞离子能量对微波Ecr等离子体Cvd沉积DLC薄膜键合和力学性能的影响
机译:用于等离子体浸没离子注入和沉积工艺的微波ECR等离子体源的改进
机译:在高真空条件下通过微波ECR等离子体源离子注入同步增强的磁控溅射沉积在金属基板上合成陶瓷膜
机译:微波ECR等离子体源增强的RF反应磁控溅射沉积用于电绝缘应用的致密SiO2薄膜
机译:用微波ECR等离子体反应器沉积氢化非晶碳膜的膜性能和沉积过程的研究。
机译:从He / H2 / CH4 / N2微波等离子体沉积超光滑纳米结构金刚石薄膜
机译:由ECR等离子体源产生的用于薄膜沉积的等离子体的特性
机译:ECR微波等离子体沉积类金刚石薄膜
机译:带ECR等离子体源的薄膜沉积室
机译:DLC薄膜沉积设备和使用该装置的DLC薄膜涂层方法
机译:具有扩展的热等离子体源的薄膜沉积设备以及使用该薄膜沉积设备沉积薄膜的方法
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