TiO2纳米孔薄膜负载5,10,15,20-四(4-羟苯基)卟啉的正交优化

摘要

采用阳极氧化法,通过二步施加电压的方式制备了具有纳米孔结构的TiO2薄膜,随后以周期换向脉冲将光敏剂5,10,15,20-四(4-羟苯基)卟啉(简称THPP)负载到该薄膜上.利用正交试验,通过在0.25 mol/L的Na2SO4溶液中测量有无光照下的开路电位和电化学阻抗谱,研究了正、反向占空比,正、反向脉冲工作时间,总时间,负载液温度,平均电流等7个工艺参数对薄膜光电性能的影响.结果表明,影响占主导地位的因素为温度、正向脉冲工作时间和正向占空比,其次为平均电流和负载的总时间,影响最小的是反向占空比和反向脉冲工作时间.在正向脉冲工作时间为150 ms,反向脉冲工作时间为20 ms,正向占空比为20％,反向占空比为50％,负载液温度为45°C,平均电流为30 mA,负载总时间未50 min时负载效果最佳,薄膜在光照下的开路电位与无光照时变化最大,电化学反应电阻最小.