首页> 中文期刊> 《电子元件与材料》 >TiW-Au金属化结构的金层剥离问题

TiW-Au金属化结构的金层剥离问题

         

摘要

TiW-Au膜系结构可用于混合集成电路.TiW与Au的附着力对溅射气氛较敏感.采用合适的纯气,对气路加热抽真空,清洗真空腔,增加管路气阀等方法,可确保合适的溅射气氛,解决Au层剥离的问题.真空腔体是否需要清洁处理,可用泄漏率评判.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号