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李嘉珩; 马保吉; 范植坚;
西安工业学院机电工程学院,陕西西安,710032;
光刻胶; 微细加工; 电化学加工;
机译:通过改变掩膜壁角度来改善掩膜式电化学加工过程中的电解液流场
机译:掩膜壁角度对掩膜电化学加工过程中基孔形状变化的影响
机译:基于残留纳米掩膜的多种多样的纳米结构林的制造,该掩膜是通过氧等离子体去除光刻胶而合成的
机译:多层掩膜在清除UV纳米压印光刻胶残留中的应用
机译:开发用于环境参数测量的微细电化学传感器,适用于腐蚀评估和气态氧检测。
机译:在人工耳蜗和模拟人工耳蜗听觉中使用各种掩膜器的语音理解:频谱分辨率的影响以及掩膜释放的含义
机译:磁性纳米晶体改性环氧树脂光刻胶,用于AFM探针的微细加工
机译:叶片端壁角区近壁水流参数的试验研究
机译:制造微细分子的方法和制造微细分子的光掩膜
机译:光刻胶,掩膜以及使用该光刻胶制造半导体器件的方法
机译:光刻胶掩盖坯料的位移阶段,光刻胶掩膜的位移阶段,以及制造半导体元件的方法。
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