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杨健; 刘硕; 白振旭; 俎群;
河北工业大学电子信息工程学院先进激光技术研究中心 天津300401;
河北工业大学机械工程学院 天津300401;
二硫化钼; 空位缺陷; 光学性质; 可饱和吸收性;
机译:Cu掺杂氧化锌薄膜的可饱和吸收和反向可饱和的吸收性能
机译:反射型Langmuir–Blodgett二硫化钼可饱和吸收剂,用于Q开关Nd:GdVO 4 sub>激光器
机译:使用二硫化钼可饱和吸收器的被动Q切换激光器为1.34μm。
机译:使用分子动力学模拟预测单层缺陷单层MOS 2 INF>具有单钼空位缺陷的机械性能
机译:朝向低温固体源合成单层钼二硫化物和低电阻触点到二硫化二硫化钼的装置
机译:单空位缺陷石墨烯和单层二硫化钼的原子尺度摩擦的数值分析
机译:表面活性剂辅助的二硫化钼剥离,通过边缘态可饱和吸收产生超快脉冲
机译:生长条件对单层二硫化钼测量电性能的影响。
机译:用于制造FET的单层二硫化钼的装置和使用单层二硫化钼的FET制造方法
机译:可扩展合成二硫化钼单层和多层膜的方法
机译:可分级合成二硫化钼单层和几层膜的新方法
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