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武晓玲; 刘玉岭; 贾英茜; 鲍云英;
河北工业大学微电子研究所;
硼酸锂铯; 潮解; 化学机械抛光; 有机溶剂;
机译:各向异性对LBO晶体化学机械抛光的影响
机译:原位氢化和晶体化学研究的原位氢化和晶体化学研究的CO 2 si型化合物Mgpd 2 sub> 2和Pd 2 sub> 2 ZN.
机译:改进非线性光学晶体CLBO紫外激光损伤电阻的开发技术开发
机译:通过现场实时测量技术对化学机械抛光(CMP)中的铜化学动力学进行研究。
机译:不锈钢304(SS304)流化床化学机械抛光(FB-CMP)工艺初步研究(SS304)
机译:机械抛光,化学杂质分布的研究 使用TOFsIms技术处理和高真空脱气的纯铌样品
机译:采用化学机械抛光(Cmp)和热氧化的纳米通道制造技术
机译:提供能够将特定技术和每种主要研究技术之间的研究关联引入的关联技术服务的方法及其系统
机译:研究中的人的关键状态的技术注册装置,其品种和研究中的人的关键状态的技术注册方法
机译:该单元开始循环运动,在滚动研究辊测功机的技术研究和汽车振动学微调技术过程中,将振动耦合动力系排除在车身之外
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