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李国明; 孙世尧; 陈学群;
海军工程大学理学院化学与材料系;
湖北武汉430033;
中国人民解放军第161医院;
铁铬钼软磁合金; 离子束辅助沉积; 显微硬度; 耐蚀性; TiN薄膜;
机译:TiO_2薄膜的反应性Ar离子束溅射沉积:工艺参数对薄膜性能的影响
机译:锗薄膜的离子束溅射沉积:工艺参数对薄膜性能的影响
机译:离子束辅助沉积参数对氮化硼薄膜性能的影响
机译:工艺参数对90In-10Sn(wt%)合金离子束辅助沉积生长ITO薄膜性能的影响
机译:研究工艺参数变化对离子束溅射Sc2O3和HfO2薄膜的材料性能和激光损伤性能的影响。
机译:工艺参数和前驱体脉冲比对原子层沉积La1-xAlxO3薄膜性能的影响
机译:离子束能量对离子束辅助沉积制备的铟锡氧化物薄膜性能的影响
机译:离子束溅射沉积高(Tc)超导薄膜的离子散射和溅射工艺研究:沉积参数的优化。
机译:改善离子束溅射系统中离子束沉积薄膜性能的方法和装置
机译:使用RF偏置ESC影响Ti和TiN的薄膜性能
机译:用于厚TiN薄膜中应力控制的调制沉积工艺
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